硅鋼片1949年美國制成厚度小于0.1mm的冷軋（110）[001]取向薄硅鋼帶，用于電子工業。1957年聯邦德國制成了（100）[001]立方取向硅鋼片，其縱橫向磁性都高，但因工藝復雜，至今未正式生產。圖2是（110）[001]和（100）[001]取向硅鋼片中晶粒排列示意圖。含硅6.5%的Si-Fe合金的磁致伸縮約為零，磁導率高、鐵損低、制成的變壓器無噪聲但因加工困難，未得到廣泛應用。70年代采用液態快冷技術制成6.5Si-Fe微晶薄帶，研制了更薄的取向硅鋼片和（100）面織構（晶間無取向）的硅鋼片等新品種

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硅鋼片冷軋無取向硅鋼片是將鋼坯或連鑄坯熱軋成厚度約2.3mm帶卷。制造低硅產品時，熱軋帶卷酸洗后一次冷軋到0.5mm厚。制造高硅產品時，熱軋帶酸洗后（或先經800～850℃常化后再酸洗），冷軋到0.55或0.37mm厚，在氫氮混合氣氛連續爐中850℃退火，再經6～10%小壓下率冷軋到0.50或0.35mm厚。這個小壓下率的冷軋可使退火時晶粒長大，鐵損降低。這兩種冷軋板都在20%氫氮混合氣氛下連續爐中850℃最終退火，然后涂磷酸鹽加鉻酸鹽的絕緣膜。晶粒取向硅鋼一般都含Si3%，要求鋼中氧化物夾雜含量低，并必須含有硅鋼主要用氧氣轉爐冶煉（也可用電弧爐冶煉），配合鋼水真空處理和AOD技術（見爐外精煉，采用模鑄或連鑄法。根據不同的用途，冶煉時改變硅（0.5～4.5%）和鋁（0.2～0.5%）含量以滿足不同磁性的要求。高牌號硅鋼片的硅和鋁量相應提高。碳、硫和夾雜物盡量減少。

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