科研實驗專用硼靶材B靶材磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發料

產品介紹

     硼（B）不溶于水，粉末狀的硼能溶于沸硝酸和硫酸，以及大多數熔融的金屬（如：銅、鐵、錳、鋁和鈣），常溫時能與氟反應，不受鹽酸和氫氟酸水溶液的腐蝕；硼為黑色或深棕色，硬度僅次于金剛石，質地較脆，在空氣中氧化時由于三氧化二硼膜的形成而阻礙內部硼繼續氧化；硼在常溫時為弱電導體，而在高溫時導電良好。在自然界中主要以硼酸和硼酸鹽的形式存在。硼是一種用途廣泛的化工原料礦物，主要用于生產硼砂、硼酸和硼的各種化合物以及元素硼，是冶金、建材、機械、電器、化工、輕毛、核工業、醫藥、農業等部門的重要原料；單質硼用作良好的還原劑，氧化劑，溴化劑，有機合成的摻合材料，高壓高頻電及等離子弧的絕緣體，雷達的傳遞窗等。

           硼（B）濺射靶可用于半導體，化學氣相沉積（CVD）和物理氣相沉積（PVD）顯示器和光學應用。
           硼是一種黑色的非金屬元素，硼化合物用于有機合成，制造特定類型的玻璃和木材防腐劑。除濺射靶材外，我們還可提供硼粉，棒材，片材，箔片，圓片，帶材和細絲。

產品參數
       中文名 硼               英文名Boron
       分子量 10.81         沸點 4000℃
       熔點 2076℃          元素符號 B
       CAS登錄號7440-42-8   密度 2.46g/cm3 

支持靶材定制，請提供靶材產品的元素、比例（重量比或原子比）、規格，我們會盡快為您報價！！ 
服務項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質量保證，售后無憂！
產品附件：發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備 
質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
       陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差，連續長時間濺射易發生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
       我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
       注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
       建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。