科研實驗專用羥基磷灰石HAP磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發料

產品介紹

羥基磷灰石主要用于骨替代材料、整形和整容外科、齒科、層析純化、補鈣劑，目前廣泛應用于制造認同牙齒或骨骼成份的尖端新素材。另外，由于羥基磷灰石具有骨誘導性，常常應用于骨組織再生工程。
      產品參數
中文名  羥基磷灰石      簡稱 HAP    熔點 1650°C
密度 3.16g/cm3            分子量 1004   分子式 Ca10(PO4)6(OH)2
支持靶材定制，請提供靶材產品的元素、比例（重量比或原子比）、規格，我們會盡快為您報價！！ 
服務項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質量保證，售后無憂！
產品附件：發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝
適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備 
質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。 
加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
       陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差，連續長時間濺射易發生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！
       我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。
       注意：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！
       建議：陶瓷脆性靶材、燒結靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。